Electron and ion beams are widely used for both qualitative and quantitative analysis of semiconductor materials and devices. They can be used to image structures with sub-nm resolution and to provide information about elemental composition and dopant concentration. This course describes the fundamentals of electron and ion beam characterization and includes a project that analyzes the surface roughness of a solar cell.
Electron and Ion Beam Characterization
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Electron and Ion Beam Characterization
Dieser Kurs ist Teil von Spezialisierung „Semiconductor Characterization“
Dozent: Trevor Thornton
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Stufe Mittel
Empfohlene Erfahrung
5 Stunden zu vervollständigen
Flexibler Zeitplan
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Was Sie lernen werden
Explain the interaction of electron and ion beams with semiconductor materials.
Describe the constituent components of electron and ion beam characterization systems.
Describe applications of electron and ion beam characterization.
Kompetenzen, die Sie erwerben
- Kategorie: Laboratory Research
- Kategorie: Laboratory Equipment
- Kategorie: Analytical Testing
- Kategorie: Engineering, Scientific, and Technical Instruments
- Kategorie: Qualitative Research
- Kategorie: Image Analysis
- Kategorie: Scientific Visualization
- Kategorie: Quantitative Research
- Kategorie: Materials science
- Kategorie: Analytical Chemistry
- Kategorie: Semiconductors
Wichtige Details
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5 Aufgaben
Unterrichtet in Englisch
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- Lernen Sie neue Konzepte von Branchenexperten
- Gewinnen Sie ein Grundverständnis bestimmter Themen oder Tools
- Erwerben Sie berufsrelevante Kompetenzen durch praktische Projekte
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In diesem Kurs gibt es 5 Module
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