Optical and X-ray techniques are powerful ways to characterize semiconductor thin films. They can be used to measure film thickness, purity and crystalline quality, and for compositional analysis. Modern techniques are fast, turn-key, and generally non-destructive, allowing for rapid assessment of material properties. This course describes the fundamentals of optical and X-ray characterization and provides real-world examples of how they are used in semiconductor manufacturing.
Optical and X-Ray Characterization
Optical and X-Ray Characterization
Ce cours fait partie de Spécialisation "Semiconductor Characterization"
Instructeur : Trevor Thornton
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4 heures à compléter
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Ce que vous apprendrez
Describe the use of light to measure the thickness and refractive index of thin transparent films.
Explain how light is absorbed and emitted by semiconductors.
Explain the advantages and limitations of optical and X-ray characterization.
Compétences que vous acquerrez
- Catégorie : Systems Of Measurement
- Catégorie : Laboratory Equipment
- Catégorie : Materials science
- Catégorie : Structural Analysis
- Catégorie : Laboratory Testing
- Catégorie : Analytical Testing
- Catégorie : Laboratory Techniques
- Catégorie : Semiconductors
- Catégorie : Analytical Chemistry
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5 devoirs
Enseigné en Anglais
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Instructeur
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VS
Révisé le 15 mai 2026
lecture are a bit short and readings are very long
KN
Révisé le 8 mai 2024
Quick introduction and review of important topics. I wish if more such courses are introduced.
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